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  2018年4月18日から19日まで、パシフィコ横浜 アネックスホールにて開催される「Photomask Japan 2018 第25回ホトマスク技術展示会」に出展いたします。
この展示会において、当社は、最先端フォトマスクの計測をサポートするEB測長装置2機種と、多様なサイズ、形状、材質の基板に描画可能な EB露光装置をパネルにてご紹介いたします。
 皆様のお越しを心よりお待ちしております。
| 展示会名称 | Photomask Japan 2018 第25回ホトマスク技術展示会 | 
|---|---|
| 会 期 | 2018年4月18日(水)~4月19日(木) 10:00~17:00 | 
| 会 場 | パシフィコ横浜アネックスホール | 
出展製品
-   1Xnmノードの微細パターンを、ウエハやナノインプリント用テンプレートなどに直接描画  
-   1Xnmノードフォトマスク対応の多次元観察・測長SEM  
-   フォトマスクの3次元欠陥レビューを実現  
