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2016年11月9日から11日まで、ANAクラウンプラザホテル京都で開催される
「29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2016)」に出展いたします。
この展示会において当社は、EB露光装置およびEB測長装置をパネルにてご紹介いたします。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。
展示会名称 | 29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2016) |
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会 期 | 2016年 11月9日(水)13:00 - 19:00 2016年 11月10日(木)9:00 - 18:00 2016年 11月11日(金) 9:00 - 16:00 |
会 場 | ANAクラウンプラザホテル京都 |
ブース番号 | 小間番号 1 |
出展製品
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1Xnmノードの微細パターンを、ウエハやナノインプリント用テンプレートなどに直接描画
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ウエハ上の微細パターンを3D計測し、1Xnmノードプロセスでの安定かつ高精度な測定を提供