28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2015) 28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2015)

2015年11月11日から13日まで、富山国際会議場で開催される
「International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2015)」に出展いたします。

この展示会において当社は、EB露光装置およびEB測長装置をパネルにてご紹介いたします。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。

展示会名称 28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2015)
会 期 2015年11月11日(水)13:00 - 19:00
2015年11月12日(木)9:00 - 18:00
2015年11月13日(金) 9:00 - 15:00
会 場 富山国際会議場2Fロビー
ブース番号 小間番号 2

出展製品

  • EB露光装置「F7000」

    1Xnmノードの微細パターンを、ウエハやナノインプリント用テンプレートなどに直接描画

    F7000
  • WAFER MVM-SEM®「E3310」

    ウエハ上の微細パターンを3D計測し、1Xnmノードプロセスでの安定かつ高精度な測定を提供

    E3310