29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2016) 29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2016)

2016年11月9日から11日まで、ANAクラウンプラザホテル京都で開催される
「29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2016)」に出展いたします。

この展示会において当社は、EB露光装置およびEB測長装置をパネルにてご紹介いたします。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。

展示会名称 29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2016)
会 期 2016年 11月9日(水)13:00 - 19:00
2016年 11月10日(木)9:00 - 18:00
2016年 11月11日(金) 9:00 - 16:00
会 場 ANAクラウンプラザホテル京都
ブース番号 小間番号 1

出展製品

  • EB露光装置「F7000」

    1Xnmノードの微細パターンを、ウエハやナノインプリント用テンプレートなどに直接描画

    F7000
  • WAFER MVM-SEM®「E3310」

    ウエハ上の微細パターンを3D計測し、1Xnmノードプロセスでの安定かつ高精度な測定を提供

    E3310