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2017年4月5日から6日まで、パシフィコ横浜　アネックスホールにて開催される「Photomask Japan 2017 第24回ホトマスク技術展示会」に出展いたします。

この展示会において、当社は、最先端フォトマスクの計測をサポートするEB測長装置2機種と、多様なサイズ、形状、材質の基板に描画可能な EB露光装置をパネルにてご紹介いたします。
皆様のお越しを心よりお待ちしております。