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  2015年11月11日から13日まで、富山国際会議場で開催される
 「International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2015)」に出展いたします。
この展示会において当社は、EB露光装置およびEB測長装置をパネルにてご紹介いたします。
 皆様のご来場を心よりお待ちしております。
| 展示会名称 | 28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2015) | 
|---|---|
| 会 期 | 2015年11月11日(水)13:00 - 19:00 2015年11月12日(木)9:00 - 18:00 2015年11月13日(金) 9:00 - 15:00 | 
| 会 場 | 富山国際会議場2Fロビー | 
| ブース番号 | 小間番号 2 | 
出展製品
-   1Xnmノードの微細パターンを、ウエハやナノインプリント用テンプレートなどに直接描画  
-   ウエハ上の微細パターンを3D計測し、1Xnmノードプロセスでの安定かつ高精度な測定を提供  
-   1Xnmノードフォトマスク対応の多次元観察・測長SEM  
-   フォトマスクの3次元欠陥レビューを実現  

