网页内容展示 网页内容展示

2016年11月9日から11日まで、ANAクラウンプラザホテル京都で開催される
「29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2016)」に出展いたします。

この展示会において当社は、EB露光装置およびEB測長装置をパネルにてご紹介いたします。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。

展示会名称 29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2016)
会 期 2016年 11月9日(水)13:00 - 19:00
2016年 11月10日(木)9:00 - 18:00
2016年 11月11日(金) 9:00 - 16:00
会 場 ANAクラウンプラザホテル京都
ブース番号 小間番号 1

出展製品

  • EB露光装置「F7000」

    1Xnmノードの微細パターンを、ウエハやナノインプリント用テンプレートなどに直接描画

    F7000
  • WAFER MVM-SEM®「E3310」

    ウエハ上の微細パターンを3D計測し、1Xnmノードプロセスでの安定かつ高精度な測定を提供

    E3310