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nano_tech_2016

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2017年2月15日から17日まで、東京ビッグサイトで開催される「nano tech 2017 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」に出展いたします。

この展示会において当社は、EB露光装置およびEB測長装置をパネルおよび映像にてご紹介いたします。皆様のご来場を心よりお待ちしております。

展示会名称 nano tech 2017 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議
会　期 2017年 2月15日(水) -  2月17日(金) 10:00～17:00
会　場 東京ビッグサイト
ブース番号 小間番号　5J-24

出展製品

  • EB露光装置「F7000」

    1Xnmノードの微細パターンを、ウエハやナノインプリント用テンプレートなどに直接描画

    F7000

  • WAFER MVM-SEM®「E3310」

    ウエハ上の微細パターンを3D計測し、1Xnmノードプロセスでの安定かつ高精度な測定を提供する多次元観察・測長SEM

    E3310