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2015年11月11日から13日まで、富山国際会議場で開催される
「International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2015)」に出展いたします。
この展示会において当社は、EB露光装置およびEB測長装置をパネルにてご紹介いたします。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。
展示会名称 | 28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2015) |
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会 期 | 2015年11月11日(水)13:00 - 19:00 2015年11月12日(木)9:00 - 18:00 2015年11月13日(金) 9:00 - 15:00 |
会 場 | 富山国際会議場2Fロビー |
ブース番号 | 小間番号 2 |
出展製品
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1Xnmノードの微細パターンを、ウエハやナノインプリント用テンプレートなどに直接描画
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ウエハ上の微細パターンを3D計測し、1Xnmノードプロセスでの安定かつ高精度な測定を提供
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1Xnmノードフォトマスク対応の多次元観察・測長SEM
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フォトマスクの3次元欠陥レビューを実現