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株式会社アドバンテスト（本社：東京都千代田区 社長：松野晴夫）は、2012年12月5日から7日まで、幕張メッセ（千葉県千葉市）にて開催されるセミコン・ジャパン2012に出展いたします。
アドバンテスト・グループでは、“Creating True Value” をテーマに、テスト・システム、EB露光装置、測長SEMの新製品に加え、新規事業としてスタートしたMEMSリレーやCloudTesting™ Serviceなど、お客様に最適なソリューションをお届けする数々の製品やサービスをご紹介いたします。皆様のご高覧をいただけますよう、ご案内申し上げます。
| 会 期： | 2012年12月5日（水）～12月7日（金） 10:00am ～ 5:00pm | ||
| 会 場： | 幕張メッセ 国際展示場 | ||
| · 半導体テスト・システム関連 | ホール8 | 後工程ゾーン 8C-901 | |
| · EB露光装置・測長SEM | ホール3 | 前工程ゾーン 3D-803 | |
| · MEMSリレー | ホール5 | 次世代パビリオン M-20 | |
| · CloudTesting™ Service | ホール5 | 次世代パビリオン I-18 | |
| · リース、レンタル、中古機販売 | ホール8 | 中古装置パビリオン E-001 | |
※ 事前入場登録の方法などにつきましては、 セミコン・ジャパン2012公式サイト をご覧ください。
出展の見どころ
半導体テスト・システム関連 （ホール8）
テスト・システム 「T2000」
スマートカードIC、アナログ・フラッシュメモリ内蔵マイコン試験に最適な「T2000 IMS」 (Integrated Massive Parallel Test Solution) や、DDR-SDRAMやLPDDR-SDRAMの量産向けメモリ・テスト・システム「T5811」、などの新製品を実機展示いたします。また、プローブ・カード、テスト・ハンドラ、バーンイン・テスト・ソリューションなどの製品群や、フィールド・サービス、当社のサプライ・チェーン・マネジメントをパネルなどでご紹介いたします。
EB露光装置、測長SEM （ホール3）
WAFER MVM-SEM®「E3310」
3機種の新製品をパネルでご紹介いたします。
- EB露光装置 「F7000」
1Xnmノードの微細パターンを、ウエハやナノインプリント用テンプレートなどに直接描画。 - WAFER MVM-SEM® 「E3310」
ウエハ上の微細パターンを3D計測し、1Xnmノードプロセスでの安定かつ高精度な測定を提供。 - フォトマスク向けのMASK DR-SEM 「E5610」
傾斜観察機能を備え、3次元の欠陥レビューを実現。
∗ MVM-SEM®は、（株）アドバンテストの日本、米国およびその他の国における登録商標または商標です。
MEMSリレー （ホール5）
圧電駆動方式による、小型化・高寿命・高信頼性・耐環境性を実現したMEMSリレーです。DC ～ 20GHzの広帯域に対応し、高速通信機器や高周波計測器などに広くご利用いただけます。今回は実物展示のほか、当製品の特長などをご紹介する無料セミナーを開催いたします。
（日時：12月6日（木）11:30～11:50 場所：ホール5・6 出展者ステージ ）
CloudTesting™ Service （ホール5）
業界初となるオンデマンド型のテスティング・サービスです。最先端のテスティング技術をタイムリーにご利用いただけます。当日は実機を用いて、デバイスの測定・評価や、大学・高専向けの教材への適用例をデモでご覧いただけます。また、当サービスをご紹介する無料セミナーも開催いたします。
（日時：12月6日（木）14:00～14:20 場所：ホール5・6 出展者ステージ ）
∗ 当サービスの詳細につきましては、Cloud Testing™ Service社サイト をご参照ください。
本件に関するお問い合わせ先
社長室 広報・IR課 03-3214-7500
※ 本ニュースリリースに掲載されている情報は、発表日現在の情報であり、時間の経過、または、さまざまな事象により予告無く変更される可能性がありますので、あらかじめご了承ください。