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2016年4月7日から8日まで、パシフィコ横浜 アネックスホールにて開催される「Photomask Japan 2016 第23回ホトマスク技術展示会」に出展いたします。
この展示会において、当社は、最先端フォトマスクの計測をサポートするEB測長装置2機種と、多様なサイズ、形状、材質の基板に描画可能な EB露光装置をパネルにてご紹介いたします。
皆様のお越しを心よりお待ちしております。
展示会名称 | Photomask Japan 2016 第23回ホトマスク技術展示会 |
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会 期 | 2016年4月7日(木)~4月8日(金) 10:00~17:30 |
会 場 | パシフィコ横浜アネックスホール |
出展製品
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1Xnmノードの微細パターンを、ウエハやナノインプリント用テンプレートなどに直接描画
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1Xnmノードフォトマスク対応の多次元観察・測長SEM
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フォトマスクの3次元欠陥レビューを実現